| [ KAIST ] in KIDS 글 쓴 이(By): ICHTHUS (MBT K2A1) 날 짜 (Date): 2004년 11월 5일 금요일 오후 06시 39분 47초 제 목(Title): [Q] 웨이퍼등 시료 깨끗하게 하는 방법 (토끼님, 감사합니다. ^^) 질문의 순서가 좀 바뀐 거 같습니다만... 제가 SiO2 substrate(amorphous or crystalline)로 실험하는데요. 표면을 깨끗하게 만드는(이물질-먼지나...- 없애는) 좋은 방법이 뭐 있나요? 쉽게는 에탄올에 넣고 sonication하는 방법이 있을거고... Ar plasma로 때리는 방법도 있을건데, 이게 표면 작용기나 그런거에 영향을 줄 수도 있을거 같고... RCA method를 처음에 써보려고 했더니, 이놈은 거의 표면 개질 방법이더라구요. @ 참고로, AFM용입니다. |